1. 中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中,性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准
中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，这一数据相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。这说明了我国在光刻机技术方面相对滞后，存在着一定的差距。
2. 我国光刻机在技术突破方面遇到困难
在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机停留在只能制造90nm制程的芯片的水平上。这一限制导致我国在技术上与国外厂商存在一定的差距，无法满足更高制程要求的市场需求。
3. 上海微电子的光刻机在应用领域上的广泛应用
根据资料显示，目前上海微电子的90nm光刻机主要应用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等领域。在精度方面，90nm的光刻机经过两次曝光后仍然能够保持较高的精度，具有较好的稳定性。
4. 光刻机根据光源的变化分为5代
根据光源的变化，光刻机共分为5代，分别是最早的436纳米光刻机，第二代是365纳米波长，第三代是248纳米，第四代是193纳米波长，第五代是13.5纳米波长的EUV光刻机。随着光源波长的不断缩小，光刻机的制程能力也在不断提升。
5. 中国光刻机制造商上海微电子在2021年将交付28nm沉浸式光刻产品
作为中国最厉害的光刻机生产商，上海微电子将在2021年交付28nm的沉浸式光刻产品。这种产品可以生产7nm的芯片，虽然与西方的5nm相比仍有差距，但表明了中国在光刻机技术上的进步。
6. 中国光刻机突破22纳米，摆脱对荷兰的依赖
近期有消息显示，中国光刻机已经突破22纳米的制程，有望摆脱对荷兰的依赖。虽然与全球最先进的5nm制程相比仍有差距，但这标志着中国在光刻机制造技术上取得了重要的突破。
7. 全球最先进的光刻机可以实现5nm的工艺制程
目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机(EUV)，是目前全球最顶尖的光刻机设备，其技术在全球范围内处于领先地位。
中国目前最好的光刻机制造商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机的制程只能达到90nm，与国外相比仍存在差距。然而，中国光刻机技术正在不断发展，已经取得了重要突破，有望摆脱对国外的依赖。未来随着中国技术的高速发展，相信中国在光刻机制造领域会有更大的突破，实现更先进的工艺制程。